该厂为新国际老牌半导体技术装封测试图片工业企业，产量的过程中带来巨大含光刻胶、聚酯树脂等蒙题子可挥发物的生产废水，过去的策略治疗成果差，亟需升极创新。 废渣属性数据分析 核心严重污染物： 锯开研磨抛光废渣 ：含硅粉、悬屏物（SS>500mg/L） 去胶废水处理 ：含光刻胶稳定度物（COD达到8000-12000mg/L） 化学镍污废水 ：轻微金、银等贵合金金属阳离子 清洁工作电镀废水：含氟化物（50-200mg/L） 改革创新治疗工艺设计 通过"一级氧化的+MBR"三人组合技术应用： 预解决标段 ： 旋流发展快速清理大颗粒状硅粉 化学上除氟（加药氯化钙造成氟化钙沉淀物中） 管理处治疗机组 ： Fenton空气氧化（H2O2/Fe2+）化解生物大分子式有机的物（COD除掉率60-70%） UASB好氧池现象器进这一步可降解（COD我们要除率>80%） MBR膜怪物生理催化反应器（PVDF中空玻璃窗玻纤膜，孔的直径0.1μm） 循环平台 ： 反浸入安全装置产水中水工业废水处理于生产制造线（中水工业废水处理率>65%） 运动取得的成绩 除理前后轮水源评测（标准差）： COD从9500mg/L降低45mg/L 氟化物从180mg/L减少为8mg/L SS从480mg/L调至5mg/L 设计自動化程度较高，每吨的水处置制造费较原技艺降底22%，评为省级重点清洗产生演示新项目。